The effects of a surface magnetic field on reactive ion etching

نویسندگان
چکیده

برای دانلود رایگان متن کامل این مقاله و بیش از 32 میلیون مقاله دیگر ابتدا ثبت نام کنید

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

منابع مشابه

Reactive ion etching

The reactive ion etching ofInP, InGaAs, and InAIAs in CClzF2/02 or C2R(/H2 discharges was investigated as a function of the plasma parameters pressure, power density, flow rate, and relative composition. The etch rates of these materials are a factor of 3-5 X faster in CC12F 2/0 2 (-600--1000 AminJ ) compared to CzHJH2 (160-320 AminI ). Significantly smoother morphologies are obtained with C2H6...

متن کامل

the effects of error correction methods on pronunciation accuracy

هدف از انجام این تحقیق مشخص کردن موثرترین متد اصلاح خطا بر روی دقت آهنگ و تاکید تلفظ کلمه در زبان انگلیسی بود. این تحقیق با پیاده کردن چهار متد ارائه اصلاح خطا در چهار گروه، سه گروه آزمایشی و یک گروه تحت کنترل، انجام شد که گروه های فوق الذکر شامل دانشجویان سطح بالای متوسط کتاب اول passages بودند. گروه اول شامل 15، دوم 14، سوم 15 و آخرین 16 دانشجو بودند. دوره مربوطه به مدت 10 هفته ادامه یافت و د...

15 صفحه اول

on the effects of pictorial clues on the efl learners listening comprehension development

the following null hypothesis was proposed: there is no significant difference between the efl students listening comprehension development receiving pictorial cues and those receiving no cuse. to test the null hypothesis, 52 male and femal freshmen students of medicine studing at iran university of medical scinces were randomly selected from a total population of 72 students. to ensure that th...

15 صفحه اول

Reactive ion etching of glass for biochip applications: Composition effects and surface damages

Due to its insulating properties, transparency, and well known surface chemistry, glass represents an interesting alternative to silicon or polymers for biochip processing. However, high aspect-ratio posts for DNA electrophoresis have only been reported in expensive quartz substrates. Therefore, we investigate here metal mask transfer by fluorocarbon plasma etching in nine silica or glasses of ...

متن کامل

ذخیره در منابع من


  با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ژورنال

عنوان ژورنال: Journal of Applied Physics

سال: 1991

ISSN: 0021-8979,1089-7550

DOI: 10.1063/1.347682